پوسیدگی هایی مغزی در بیماران اسکیزوفرن:تحقیقی جدید کشف کرد که آسیب ناشی از عدم تعادلی شیمیایی در مغز با اختلال اسکیزوفرنی مرتبط است.
دانشمندان علوم اعصاب با استفاده از نوع جدیدی اندازه گیری ام آر آی ((MRI، سطوح بالاتری از فشار اکسایشی را در بیماران اسکیزوفرن در مقایسه با هر دو افراد سالم و مبتلا به اختلال دو قطبی گزارش کردند.
دکتر فی دو دانشیار روانپزشکی در دانشکده پزشکی هاروارد و محقق سردبیر این مطالعه بیان کرد: مطالبه ی انرژی شدید از سلول های مغز منجر به تراکم گونه های اکسیژن بسیار واکنش زایی مانند رادیکال های آزاد و پروکسید هیدروژن می شود.
در موارد زیادی تصور بر این بود که در اسکیزوفرنی عمل اکسایش بیش از حد، که در برگیرنده ی یک نوع واکنش شیمیایی بوده و عامل ایجاد زنگ زدگی در فلز، منجر به التهاب و آسیب سلولی می شود. اما اندازه گیری این فرآیند در مغز انسان زنده چالش برانگیز بوده است.
دو و همکارانش در بیمارستان مک لین، تنش اکسایشی را با استفاده از تکنیک جدید طنین مغناطیسی طیف نمایی اندازه گیری کردند. در این تکنیک با استفاده از اسکنرهای ام آر آی با سنجش غیرفراگیر، غلظت مغز را در دو مولکول NAD و NADH اندازه گیری می کنند تا نحوه توانایی دقیق مغز را در از بین بردن اکسید شدن های شدید نشان دهند. دو از بین 21 بیمار دارای اسکیزوفرنی مزمن رشد صعودی 53 درصدی اکسید شدن در NADH رادر مقایسه با افراد سالم همسن مشاهده کرد.
براساس تحقیقات میزان مشابهی از افزایش NADH نیز در افرادی که به تازگی در ابتلا به بیماری اسکیزوفرنی تشخیص داده شده بودند یافت شد و حاکی از وجود بی تعادلی اکسایشی حتی در مراحل اولیه بیماری است. همچنین نسبی ترین روند صعودی NADH در اختلال دوقطبی مشاهده شد که با اسکیزوفرنی از نظر ژنتیکی و بالینی همپوشانی دارد. براساس اظهارات دو (Du) این یافته ها علاوه بر ارائه بینش های جدید در بیولوژی اسکیزوفرنی همچنین روشی برای آزمایش اثربخشی مداخلات جدید را فراهم می کند. وی بیان کرد ما امیدواریم این کار موجب گسترش استراتژی های جدیدی برای محافظت مغز از فشار اکسایشی و بهبود کارکرد مغز در افراد اسکیزوفرنی شود.
تحقیق حاضر در سال 2016 در نشست سالیانه دانشگاه داروشناسی روانی دانشگاه هالیوود در فلوریدای آمریکا ارائه شد.
منبع:تریبون آزاد